Samsung tavoittelee 7 nanometriä vuonna 2018

ZDnet Korean mukaan Samsung aikoo edetä 7 nanometrin valmistusprosessiin vuonna 2018. Yrityksen sirusuunnittelusta vastaavan Samsung LSI:n johtaja Heo Kukin mukaan tämä onnistuu hyödyntämällä seuraavan sukupolven EUV-tekniikkaa eli kaukoultraviolettisäteilyä. Kuk on kertonut tekniikan olevan ”haasteellista”, mutta uskoo Samsungin saavan viilattua prosessinsa kuntoon.

Mikäli aikataulu pitää paikkansa, voidaan Samsungin ensimmäinen 7 nanometrin tekniikkaa hyödyntävä siru nähdä ensi vuoden Samsung Galaxy S9 -puhelimessa.

Samsung ei kuitenkaan ole yksin etenemässä kohti 7:ää nanometriä. TSMC on aiemmin kertonut testaavansa 7 nanometrin prosessia jo tämän vuoden toisella neljänneksellä, jotta ne olisivat valmiina vuoden 2018 iPhonea varten. Tällä hetkellä Samsungin edistyneimmät tuotantolinjat pystyvät 10 nanometrin viivanleveyteen.