IBM:ltä teknologinen läpimurto – esitteli 2 nanometrin valmistusprossin

IBM on saavuttanut virstanpylvään. Yritys kertoi saavuttaneensa läpimurron piirien suunnittelussa ja valmistusprosesseissa alle neljä vuotta sen jälkeen, kun he esittelivät 5 nanometrin teknologiansa.

IBM kertoo valmistaneensa 50 miljardia transistoria sisältävän piirin, joka on vain kynnen kokoinen. Kyseinen siru olisi ensimmäinen 2 nanometrin viivanleveyden piiri maailmassa.

2 nanometrin valmistusprosessin myötä IBM ennustaa saavutettavan 45 prosenttia paremman suorituskyvyn verrattuna 7 nanometrin valmistukseen. Lisäksi 2 nm kykenee 7 nm suorituskykyyn 75 prosenttia pienemmällä energiankulutuksella. Käytännössä tämä näkyisi esimerkiksi älypuhelimien pidempänä akunkestona sekä datakeskusten hiilijalanjäljen pienentymisenä.

Piirivalmistuksella on kriittisen tärkeä rooli nykypäivän tietoteknisessä maailmassa. Datakeskukset sekä monenlaiset kuluttajatuotteet autoista älypuhelimiin ja tietokoneisiin toimivat piirien varassa, siksi niiden toivoisi olevan mahdollisimman suorituskykyisiä ja energiatehokkaita. IBM:n kehittämä 2 nanometrin suunnittelu ja valmistusprosessi on jälleen parannus tähän suuntaan.

Tällä hetkellä markkinoilla olevat piirit käyttävät kapeimmillaan 5 nanometrin viivanleveyttä. Ainakin TSMC työskentelee niin ikään 2 nanometrin valmistusprosessin kehittämisen parissa.

Lue myös: TSMC aloittanee jo tänä vuonna massavalmistuksen 4 nanometrin prosessilla – Muropaketti.com