Intelin Tiger Lake -sukupolvessa käytetään päivitettyä 10 nanometrin valmistusprosessia
Intelin 10 nm+ -valmistusprosessin myötä käytetään uusia SuperFin-transistoreja ja SuperMIM-kondensaattoreita.
Intel on saanut päivitettyä, pääosin kevytkannettavissa käytetyissä prosessoreissa tähän mennessä nähdyn, 10 nanometrin valmistusprosessin uuteen 10 nm+ -versioon. Uudistettu versio hyödyntää parempia transistoreja ja parantaa virtatehokkuutta aiemmasta sukupolvesta. Intel lupaa tämän näkyvän ”dramaattisesti parempina kellotaajuuksina”.
Tämä on havaittu myös aiemmissa vuototiedoissa, joita tulevan Tiger Lake -sukupolven yhdestä lippulaivasta Core i7-1185G67:stä on nähty. VideoCardz-sivuston tietojen mukaan uuden valmistustekniikan tuoma parannus tehokkuuteen vastaa melkeinpä uuteen valmistusprosessiin siirtymisestä saatavaa hyötyä.
Tiger Lake -prosessoreissa tullaan näkemään myös enemmän L3-välimuistia ja integroiduissa grafiikkapiireissä lisää laskentayksiköitä. Lisäksi joitakin tietoturva-aukkoja on paikattu rautatasolla. Intelin Raja Kodurin odotetaan vahvistavan VideoCardzin tiedot tänään lehdistötilaisuudessa.
