Intel aloitti maailman ensimmäisen 450 mm piikiekkoja käyttävän tehtaan rakennustyöt
Intel on aloittanut maailman ensimmäisen 450 millimetrin piikiekkoja käyttävän puolijohdetehtaan rakentamisen. Tehdas nousee Yhdysvaltojen Oregoniin, Hillsboron kaupunkiin osaksi Intelin D1X-tehdaskompleksia. Uuden D1X module 2 -tehtaan pääasiallinen tarkoitus on toimia kehityskeskuksena 450 millimetrin piikiekkojen käyttöönottoa ja prosessien kehitystä varten.
Intelin edustaja Chuck Mulloy varmisti X-bit labs -sivustolle, että D1X module 2 -tehtaan rakentaminen on jo aloitettu, mutta ei kertonut tarkempia tietoja mihin vaiheeseen rakennustöitä yhtiö on edennyt. Mulloyn mukaan yhtiöllä ei ole vielä edes olemassa olevaa aikataulua tehtaan rakenustöiden etenemisestä. Hän lisäsi myös, että kuluvan vuoden aikana investoinnit koskevat lähennä itse tehtaan rakennustyötä ja joitain kehityslaitteistoja, eikä itse tuotantoon liittyvään laitteistoon olla investoimassa vielä.
Aiemmin tänä vuonna Intelin talousjohtaja (CFO, Chief Financial Officer) Stacy Smith kertoi Intelin sijoittavan rakennelmaan vuoden 2013 aika noin 2 miljardia dollaria. Smith lisäsi myös että Intel aikoo olla valmis kun 450 millimetrin piikiekoille tarkoitetut laitteistot tulevat saataville vuonna 2015.
Tällä hetkellä Intel varustelee D1X-tehdaskompleksin module 1 -tehdasta 14 nanometrin valmistustekniikan käyttöönottoa varten. Myös D1X module 1:n kerrotaan olevan varustettu 450 millimetrin piikiekkoja silmälläpitäen, mutta se tulee ainakin aluksi käyttämään 300 millimetrin piikiekkoja.
