Intel valottaa 65 nm:llä Kiinassa

Intelin tuleva 300 millimetrin piikiekkoja valottava Fab 68 -tuotantolaitos Kiinassa tulee keskittymään 65 nanometrin prosessiin, kertoo Fab 68:n johtaja Kirby Jefferson. Intelin tavoitteena on aloittaa tuotannot vuonna 2010 ja se hyppää 90 nanometrin prosessin yli suoraan 65 nanometriin, joka on samalla kehittynein prosessi, jonka Yhdysvallat on hyväksynyt käytettävän Kiinassa.

Fab 68:n rakennustyöt tullaan saamaan päätökseen näillä näkymin kolmannen vuosineljänneksen loppuun mennessä ja laitteiden asennukset aloitetaan tämän vuoden viimeisellä neljänneksellä. Laitokselle on jo värvätty 500 työntekijää ja määrä tulee nousemaan 1200-1500 henkeen. Intel on investoinut uuteen tuotantolaitokseen 2,5 miljardia dollaria ja siellä tullaan valmistamaan piirejä kuluttajatason tietokoneisiin, kuten erittäin ohuisiin kannettaviin tietokoneisiin.

DigiTimes, Intel to produce on 65nm in China