65 nanometriä mikroskoopin alla
Kanadalainen Semiconductor Insights on tutkinut Intelin 65 nanometrin valmistustekniikalla valmistettuja prosessoreja. Tutkimukset suoritettiin analysoiden tarkkoja mikroskoopilla otettuja kuvia, sekä käyttäen kemiallisia testejä. Insightin mukaan Intel on uudessa tekniikassaan keskittynyt transistorien fyysisen koon pienentämisen sijaan parantamaan niiden ominaisuuksia. Venytysmenetelmänä tutuksi tullut tekniikka on otettu Intelillä käyttöön ilmeisen onnistuneesti.
Toinen Insightsin löytö on eräänlaisten epäsulakkeiden käyttö prosessorin välimuistialueella. Epäsulakkeilla piirin ominaisuuksia voidaan poistaa ja ottaa käyttöön prosessorin testausvaiheessa, eikä paljon tilaa vieviä vanhemman tyyppisiä ratkaisuja tarvita. Välimuistista löytyneet epäsulakkeet ovat mielenkiintoisia, sillä kuvien perusteella Pentium D 920 -prosessorista löytyy välimuistia enemmän kuin tekniset tiedot antavat olettaa.
EETimes, Strain not scale marks Intel process, says consultant
EETimes, Intel 65-nm process includes antifuses, says report
