Intelin 14 nm:n prosessi aikataulussa
Intelin 14 nanometrin valmistusprosessin kehitys on aikataulussa ja piirien massatuotannon on määrä alkaa 1-2 vuodessa. Lisäksi 450 millimetrin piikiekkojen käyttöönoton kerrotaan etenevän yhteistyökumppaneiden kanssa suunnitellusta, paljasti Intelin teknologiajohtaja Justin Rattner. DigiTimes-sivuston uutisoinnin mukaan Rattner oli samalla kertonut Intelin agressiivisen panostuksen puolijohdevalmistukseen pitävän kehityksen Mooren lain määrittelemällä raiteella ainakin vielä seuraavat 10 vuotta.
Ensimmäiset 14 nanometrin prosessilla myyntiin saapuvat prosessorit ovat Broadwell-koodinimelliset mallit, jotka ovat Intelin Tick-Tock-kehitysmallissa Tick-vaihe eli siirtyminen uuteen valmistusprosessiin. Arkkitehtuurillisesti taustalla on ensi vuonna julkaistava Haswell. Intel tulee panostamaan 14 nanometrin valmistusta Oregonissa sijaitsevaan D1X-, Arizonassa sijaitsevaan Fab 42- ja Irlannissa sijaitsevaan Fab 24 -tuotantolaitokseen.
14 nanometrin jälkeen Intel tulee ottamaan käyttöön 10, 7 ja 5 nanometrin valmistusprosessit, joista ensimmäisenä mainittu on nykyisten suunnitelmien mukaan luvassa vuonna 2015. 450 millimetrin piikiekkojen osalta käyttöönotto on ajoitettu vuodelle 2017.
DigiTimes, Intel progressing in development of 14nm technology, says CTO
